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POSS倍半硅氧烷 聚倍半硅氧烷 JH-P202 笼状聚倍半硅氧烷 poss JH-P202

POSS倍半硅氧烷 聚倍半硅氧烷 JH-P202 笼状聚倍半硅氧烷 poss JH-P202

1、用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善2、用于高分辨率光刻胶制备,制作芯片等所需的精细线路3、纳米二氧化硅的分散增溶剂4、高透光硬化层(9H)

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联系方式

  • 联系人:
    梁女士
  • 地   址:
    上海 上海 嘉定区 中国上海嘉定区云谷路1388弄4号
产品特性:高透过率是否进口:否产地:上海
产品名称:甲基丙烯酰氧丙基用途:1、用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善 2、用于高分辨率光刻胶制备,制作芯片等所需的精细线路 是否危险化学品:否
含量:99%规格:5kg/桶 25kg/桶化学名:聚倍半硅氧烷
品牌:杰化

甲基丙烯酰氧丙基JH-P202

概述:

是一种有机、无机杂化的分子尺寸为纳米级的笼状聚倍半硅氧烷,

可用于胶黏剂或涂层体系,具有低收缩率,高透过率(98%),可增强涂层的附着力、抗刮性、耐温性、耐损性及光泽度,还可用作纳米材料纳米二氧化硅分散增溶剂。

物理指标:

外观 :无色透明黏稠液体

黏度: 1800-2200cps

密度 :1.20g/ml

分子量 :1433.97

折射率:1.46

溶解性: 溶于乙醇、异丙醇、PGMEA

树脂溶解性:乙烯基树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂

产品优势:

有机无机杂化纳米笼状结构,具有低收缩率、高透过性(98%)、

高光泽、高硬度及高耐磨性

应用领域:

1、用于光固化材料耐温、耐磨、光泽等性能改善

2、用于高分辨率光刻胶制备,制作芯片等所需的精细线路  

3、纳米二氧化硅的分散增溶剂

 4、高透光硬化层(9H)

包装和储存要求:

室温密封保存,避免与强碱性物质接触.









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